頂立科技立式化學(xué)氣相沉積爐(碳化硅)
概述:立式化學(xué)氣相沉積爐可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。
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技術(shù)特征
采用先進(jìn)的控制技術(shù),能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動范圍;
采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室,密封效果好,抗污染能力強(qiáng);
對沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點粘性產(chǎn)物能進(jìn)行有效處理;
采用最新設(shè)計防腐蝕真空機(jī)組,持續(xù)工作時間長,維修率極低。
立式化學(xué)氣相沉積爐(碳化硅)配置選擇
爐門:絲杠升降/液壓升降/手動升降;手動鎖緊/自動鎖圈鎖緊
爐殼:全碳鋼/內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼
爐膽:軟碳?xì)?軟石墨氈/硬質(zhì)復(fù)合氈/CFC
加熱器、馬弗:等靜壓石墨/模壓三高石墨/細(xì)顆粒石墨
工藝氣路系統(tǒng):體積/質(zhì)量流量計;手動閥/自動閥;進(jìn)口/國產(chǎn)
熱電偶:C分度號/S分度號/K分度號/B分度號
記錄儀:無紙記錄儀/有紙記錄儀;進(jìn)口/國產(chǎn)

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