頂立科技立式化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭） 

概述：立式化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳?xì)錃怏w（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理
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2022-11-07 16:43:11 點(diǎn)擊64393次
服務(wù)區(qū)域：
全國(guó)
聯(lián)系電話：
18874256050
信用：4.0  隱性收費(fèi)：4.0
描述：4.0  產(chǎn)品質(zhì)量：4.0
物流：4.0  服務(wù)態(tài)度：4.0
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立式化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）技術(shù)特征

根據(jù)爐膛尺寸與結(jié)構(gòu)設(shè)置溫區(qū)，溫度均勻性好;

采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)；

采用多通道沉積氣路，流場(chǎng)均勻，無(wú)沉積死角，沉積效果好；

對(duì)炭沉積過(guò)程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機(jī)氣體等能進(jìn)行有效的處理


立式化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）產(chǎn)品規(guī)格

參數(shù)\型號(hào) VCVD-0305-C VCVD-0608-C VCVD-0812-C VCVD-1015-C VCVD-1120-C VCVD-1520-C HCVD-151530-C
工作區(qū)尺寸D×H（mm） Φ300×500 Φ600×800 Φ800×1200 Φ1000×1500 Φ1500×2000 Φ1500×2000 Φ2600×3200
最高溫度（℃） 1500 1500 1500 1500 1500 1500 1500
溫度均勻性（℃） ±5 ±5 ±7.5 ±7.5 ±10 ±10 ±15
極限真空度（Pa） 50 50 50 50 50 50 50
壓升率（Pa/h） 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進(jìn)行調(diào)整，不作為驗(yàn)收依據(jù)，具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準(zhǔn)。


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