二手真空鍍膜機出售租賃-光馳OTFC1550,1800 韓一2050離子蒸 

廠出售日本光弛OTFC-1550/1800  韓一1600/2050 真空電鍍膜機

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。（銷售技術楊經理：18103045976）

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。

名細尺寸：

設備名稱 OTFC-1550CBI/DBI

真空室 SUS304, φ1550mm×1800mm (H)

工件架 φ1400mm

工件架轉速 10rpm to 30rpm(可變)

光學膜厚控制 HOM2-R-VIS350A光學膜厚監(jiān)控儀

波長范圍：350nm to 1100nm

反射式/透射式

水晶式膜厚計 XTC/3+6點式水晶傳感器

蒸發(fā)源 電子槍2套

離子源 17cmRF離子源

機械性能：

排氣系統(tǒng) 機械泵+2個擴散泵+Polycold（或2個冷凝泵）

達到壓力 7.0×10-5 Pa 以下

排氣時間 15分（大氣壓～1.3×10-3 Pa)

基板溫度 最高：350℃

工作條件：

設備尺寸 約5500mm(W)×7200mm(D)×3700mm(H)

電源 3相,200v,50/60Hz, 約120KVA

水流量 180升/分以上

空氣壓力 0.5MPa以上

重量 約10000kg

適用于L ED用光學薄膜、ITO膜、 反射防止膜、超多層薄膜等各種光學薄膜形成裝置

 

 

使用步驟

電控柜操作

1. 開水泵、氣源。

2. 開總電源。

3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。

4. 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。

5. 觀察渦輪分子泵讀數到達250以后，關予抽，開前機和

高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。

DEF-6B操作

1. 總電源。

2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鐘后延時及保護燈滅，若后門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。

3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節(jié)束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。

關機順序

1. 關高真空表頭、關分子泵。

2. 待分子泵顯示到50時，依次關高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鐘。

3. 到50以下時，再關維持泵。

 

[本信息來自于今日推薦網]